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上海伯东 射频离子源 RFICP 380

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≥1 (现有库存1000台 )
后更新时间:2022-05-11
人气值 10
品牌:
KRI
 
 
 
售后服务:由伯东企业(上海)有限公司从上海浦东新区发货,并提供售后服务
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    上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用.

    KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:

    1.       放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配

    2.       离子源结构模块化设计

    3.       离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行

    4.       全自动控制器

    5.       离子束动能 100-1200eV

    6.       栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用

    射频离子源 RFICP 380 技术规格:

    阳极

    电感耦合等离子体
    2kW & 1.8 MHz
    射频自动匹配

    大阳极功率

    >1kW

    大离子束流

    > 1000mA

    电压范围

    100-1500V

    离子束动能

    100-1200eV

    气体

    Ar, O2, N2,其他

    流量

    5-50sccm

    压力

    < 0.5mTorr

    离子光学, 自对准

    OptiBeamTM

    离子束栅极

    38cm Φ

    栅极材质

    钼或石墨

    离子束流形状

    平行,聚焦,散射

    中和器

    LFN 2000

    高度

    38.1 cm

    直径

    58.2 cm

    锁紧安装法兰

    12”CF

    上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.

    1978 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

    若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论请联络上海伯东邓女士分机134


  • 位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业(上海)有限公司创建于1995年12月,是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业,公司注册资金为800万美元。    本公司主要是一家以经营电子接插件、线束、电线以及机械设备、真空产品等精密仪器、设备的维修,以及以半导体制造装置、基板制造装置、电脑软件为主的国际贸易、转口贸易及保税区企业间贸易及保税区贸易代理、贸易及相关技术咨询的公司。 公司一直坚持品质一、信誉至上的原则,为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、 ISO9001-2000质量体系认证、ISO14001-1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本,不断开拓进取的精神,为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。
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